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光学膜不同于普通的保护膜或胶带,光学膜必须厚薄均匀,表面要求无尘、少晶点,这对涂布技术提出了更高的要求,要求制得的膜厚薄更均匀。因此,精密涂布工艺也逐渐发展起来并不断地完善。光学膜涂层传统上采用真空蒸镀、化学沉积、等离子聚合等方法制备,这些方法难以实现卷式薄膜基材的大规模生产;在现代涂布工艺中,常用的涂布方式有浸涂、辊涂、坡流式挤压涂布、落帘涂布等。
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